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电镀废气处理、电子厂废气治理

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UV光解电镀氧化反应机制

  

  在170 nm波长范围184.9海里(704焦每摩尔647焦每摩尔)高能紫外线(uv)光的作用下,空气中的氧气是破解一方面,然后结合产生臭氧;另一方面恶臭气体的化学键断裂,使原子或自由团体的形成;参与臭氧的反应过程同时,恶臭气体终于被破解,氧化生成简单稳定的化合物,如二氧化碳、水和二氧化硫,N2等。

  紫外线光催化技术提供的一些有机化合物的关键部分化学键可以高于紫外光子的能量,如甲醛“C = O”键的键为728焦每摩尔。目前我们提供紫外光子的能量704焦每摩尔742焦每摩尔,是发展800焦每摩尔)。甲醛170 nm紫外线紫外线的照射下,将裂解生成自由,H / C = O * *。部分(C = O)* 03反应生成二氧化碳,C = O *的一部分与氮气等惰性物质碰撞后失去能量,生成CO,足够的臭氧在有限的一部分可以氧化为二氧化碳。

  工业废气光解电镀净化设备包括:uv光解电镀净化设备、光催化单元,uv光解电镀技术,光离解,光催化空气净化设备、uv光解电镀催化、光、氧气体净化器,光催化降解装置,光催化、微波、光量子,光氧催化除臭设备。

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